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支撑柱在炉体支撑的上面,便于下面设备的维护。炉筒升降采用丝杠提升技术,简便干净。全自动控制系统采用模块化设计。便于装料和维护等。炉筒升降支撑采用双立柱设计单晶硅生长炉的特点HD系列硅单晶炉的炉室采用3节设计。上筒和上盖可以上升并向两边转动维护方便高精度真空计结合电动蝶阀实时控制炉内真空度。上称重传感器用于晶棒直径的辅助控制。伺服电机和步进电机的混合使用,即可满足转动所需的扭矩,又可实现转速的控制。质量流量计控制氩气流量。后,待大部分硅溶液都已经完成结晶时,再将晶体逐渐缩小而形成一个尾形锥体,称为收尾工艺。这样一个单晶拉制过程基本完成,进行一定的保温冷却后可以取出。放大晶体直径到工艺要求的大小,一般为75~300mm,这个过程称为放肩,接着,突然提高拉速进行转肩操作,使肩部近似直角,然后,进入等径工艺,通过控制热场温度和晶体提升速度。
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炉筒升降支撑采用双立柱设计上筒和上盖可以上升并向两边转动上称重传感器用于晶棒直径的辅助控制。伺服电机和步进电机的混合使用,即可满足转动所需的扭矩,又可实现转速的控制。质量流量计控制氩气流量。自主产权的控制软件采用视窗,作方便简洁直观。多种曲线和数据交叉分析工具了工艺实时的。完整的工艺设定界面使计算机可以自动完成几乎所有的工艺过程。加热电源采用绿色纵向12脉冲直流电源。比传统直流电源节能近15%。特殊的温场设计使晶体提拉速度提高20-30%。一般为75~300mm,这个过程称为放肩,接着,突然提高拉速进行转肩作,使肩部近似直角,然后,进入等径工艺,通过控制热场温度和晶体提升速度,生长出一定直径规格大小的单晶柱体,后,待大部分硅溶液都已经完成结晶时,再将晶体逐渐缩小而形成一个尾形锥体,称为收尾工艺。推挽式(Push-PullConverter)和半桥式(Half-BridgeConverter)四种。四管DC/DC换器是全桥DC/DC转换器(Full-Bridge Converter)。隔离式DC/DC转换器也可以按有源率器件的个数来分类。单管的DC/DC转换器有正激式(Forward)和反激式(Flyback)两种。双管反激式(DoubleTransistrFlybackConverter)双管DC/DC转换器有双管正激式(DoubleTransistorForwardConverter)。